集成电路行业
| 气体名称 | 集成电路行业应用 |
| 一氧化二氮 (N₂O) | 化学气相沉积（CVD）氧化剂 |
| 二氧化碳(CO₂) | 超临界清洗、浸没式光刻及导体制造过程中的氧化、扩散、化学气相淀积等；固化后（干冰）应用于电子低温材料，精密元器件的长短途运输 |
| 超纯氨(NH₃) | 化学气相沉积，用作钝化层、刻蚀掩模、绝缘层以及电容器介质层等 |
| 锗烷GeH4 | 制备二级晶体管特别是制备异质结二极晶体管 |
| 磷烷(PH3) | 掺杂剂、外延生长及化学气相沉积 |
| 氢气 (H₂) | 还原反应、外延生长，电子微芯片制造的去残氧 |
| 氧气 (O₂) | 氧化工艺、等离子体清洗 |
| 氮气 (N₂) | 惰性保护气、刻蚀后清洗 |
| 氩气 (Ar) | 溅射工艺保护气、等离子体稳定 |
